百能云芯(元器件)首页 > 百能资讯 > tag标签 > 氮化硅陶瓷基板
氮化硅陶瓷基板在模块中通常作为承载与散热基板,直接支撑IGBT或二极管芯片,并与铜电路或金属化层紧密结合,构成“绝缘且高导热”的核心结构,从而保障电驱动系统在高功率密度及严苛工况下的稳定运行。
氮化硅AMB覆铜基板(Si₃N₄-AMB-Cu)凭借其高强度、高韧性、优异的耐热性及卓越的综合可靠性 。Si₃N₄-AMB-Cu不仅散热能力与AlN相当,在-40~250℃的热循环测试中,铜层为0.15 mm的Si₃N₄-AMB-Cu在1000次循环后仍完好无损。
化硅陶瓷基板的卓越性能根植于其独特的微观结构。其内部以β-Si₃N₄晶相为主,互锁的长柱状晶粒交织成坚固的蜂窝状三维网络,这是其同时获得超高机械强度和出色抗热震性的根本原因。通过高温烧结工艺,赋予了材料优异的导热性、高强度、卓越的耐热性及耐化学腐蚀性。
Si₃N₄ 陶瓷基板必须采用活性金属钎焊 (AMB) 技术。 AMB 工艺利用 Ti、Zr 等活性金属元素(通常作为钎料成分)能润湿 Si₃N₄ 陶瓷表面的特性。在真空或惰性气氛中高温钎焊时,活性金属与陶瓷发生反应形成牢固界面层,从而将铜层可靠地键合在 Si₃N₄ 陶瓷基板上。
氮化硅陶瓷基板的核心结构由β相氮化硅(β-Si₃N₄)晶体主导。其微观特征表现为长柱状晶粒相互交织,形成类似“互锁网络”的三维强化骨架。
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