韩国SK海力士改造中国芯片厂遇美国阻拦

据路透社报道，知情消息人士透露，韩国SK海力士对旗下一中国大型工厂的改造计划面临危险，因美国官员不希望该过程中使用的先进设备进入中国，这一潜在的风险可能使SK海力士卷入中美冲突之争的企业。

据悉，SK海力士的生产计划要求公司以荷兰艾司摩尔(ASML) ASML.AS的最新极紫外光(EUV)微影技术的芯片制造机为无锡厂的一个量产设施进行升级。但是，拜登政府仍然专注于防止中国利用美国和盟国的技术来发展最先进的半导体制造，这将会助力中国军事现代化，因此，海力士对旗下中国芯片厂的改造计划恐落空。


SK海力士是世界上最大的动态随机存取记忆体(DRAM)内存芯片供应商之一，从智能手机到数据中心的各个领域都使用这种芯片。而无锡这家工厂对全球电子行业至关重要，因其生产SK海力士约半数的动态随机存取记忆体芯片，占全球总量的15%。任何重大变化都可能对全球内存(记忆体)市场产生影响，分析公司IDC称，光是2021年，全球内存市场的需求就将增长19%。

一位了解SK海力士在中国运营情况的消息人士说，随着两到三年后新型芯片在SK海力士的生产中占据更大份额，该公司将需要EUV光刻机来控制其成本并加速生产。

SK海力士内部的担忧以前没有被报道过。如果这种情况在未来几年内得不到解决，SK海力士可能会在与头号内存芯片制造商三星电子和美国美光等对手的竞争中处于不利地位。三星和美光也都在转向使用艾司摩尔的EUV光刻机，但没有在工厂所在地使用，因为这些机器面临出口限制。

据两位知情人士称，艾司摩尔EUV光刻机的问题在SK海力士内部引起了足够的关注，首席执行官Lee Seok-hee在7月访问华盛顿特区时向美国官员提出了这个问题。

SK海力士不予置评，并补充说，它根据各种市场环境灵活运作，正在尽最大努力应对市场和客户的需求，没有问题。

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