应材推新设备减少微影成本挑战ASML！ 据称英特尔已掌握该技术

美国半导体设备大厂应用材料（Applied Materials）已开始销售一种芯片制造设备，它能让半导体产业降低对荷兰艾司摩尔（ASML）的依赖，而且能以更便宜的成本来生产能处理人工智能（AI）任务的超强大半导体。

应材科技的Centura Sculpta机器是所谓的图案成形系统，让客户减少必须花在微影制程的时间，微影是利用光将电路图案烧在晶圆上过程。应材2月28日表示，微影技术已变得越来越复杂且昂贵，新的做法将协助简化芯片的制造并减少浪费。

彭博资讯报道说，应材此举可能会扰乱目前由ASML机台称霸的微影市场。虽然应材并非是直接挑战ASML，但却尝试改变产业制造芯片的方式。

应材股价28日大涨3.6%至每股116.15美元；ASML在阿姆斯特丹交易的股价同日跌1.9%至每股584欧元（618美元）。可让芯片储存和存取数据的电路图案是烧在晶圆上，接着用其他金属和其他物质填满。这种制程中的微影阶段已变得也越来越困难，原因是电路尺寸缩小，小到比多数光源的波长还要小。

ASML的极紫外光设备（EUV）能够处理这些先进半导体的制程，EUV机台更是该公司的「摇钱树」，其销量自2019年来已增加近一倍， ASML预期今年营收成长25%。相比较，其他芯片设备产业正面临营收萎缩的局面，原因是客户正在应付库存过剩的窘境。

在半导体产业中，一台设备的价格动辄超过1,000万美元，而ASML的机台是其中最贵的机台之一。不过，ASML的方法有其缺陷，芯片的某些部分需要多重曝光，必须进行两次以上的曝光才能达到预期的效果。

应材的新机器则利用电力活化化学技术来完成制程的这一部分，不再需要一些多重曝光。应材主管若杰（Prabu Raja）在声明中表示，这样的想法是要「补充」紫外光微影，同时处理先进芯片制造的经济与环境问题。

根据Cowen分析师桑卡尔的看法，这种新设备有望为应材年营收增加2亿至3亿美元，但短期内不会削弱ASML的EUV营收。

根据应材的说法，采用这套新系统的芯片业者，在运作每月处理10万片晶圆的产线规模情况下，可节省多达2.5亿美元的资本费用，每片晶圆能节省50美元的成本、节能效益达15度电、省下15公升的水，减少排出0.35公斤的二氧化碳。

应材这项新产品主要用于生产先进逻辑芯片，例如英伟达用于AI的绘图处理器。世界上目前只有台积电、三星和英特尔专精这类型芯片的生产。应材说，英特尔是已经拥有这项技术的公司。

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